2026-08-14
由於傳統開發模式下,為解決半導體製造商於生產端面臨之課題,往往需仰賴研發人員之經驗與直覺進行重複試錯,不僅耗費大量時間與成本,亦難以突破既有知識與技術之框架。富士軟片(Fujifilm)為突破研發瓶頸,建構全新之數位研發機制,其核心流程如下:
上述創新模式已於化學機械研磨液(CMP Slurry)之開發展現顯著成效。隨著半導體銅導線微細化發展,阻絕層金屬(Barrier Metal)材質隨之變更,若使用傳統CMP研磨劑易產生研磨殘留物,成為影響良率之瓶頸。對此,富士軟片透過數位分身模擬找出殘留原因與抑制機制,再經由MI篩選配方並交由機器人進行自動化實驗,最終以不到傳統開發週期一半的時間,成功開發解決殘留問題之新型CMP研磨劑。
除CMP研磨劑外,富士軟片亦將數位分身技術拓展至先進封裝後段製程材料聚醯亞胺(Polyimide)之開發。該公司表示未來將持續發揮數位分身之技術效益,以儘速研發符合客戶要求之產品性能,後續將全力發展半導體材料事業,在2030年度達到5,000億日圓營收目標。