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應材新晶片機台將挑戰艾司摩爾

2023-03-02

據媒體報導，美國半導體設備大廠應用材料（Applied Materials）已開始銷售一種晶片製造設備，能讓產業降低對荷蘭艾司摩爾（ASML）的依賴，且能以更便宜的成本來生產能處理人工智慧（AI）任務的半導體。

應材的Centura Sculpta機器是所謂的圖案成形系統，讓客戶減少必須花在微影製程的時間。應材表示，微影技術愈來愈複雜且昂貴，新的做法將協助簡化晶片的製造並減少浪費。

彭博資訊報導，應材此舉有可能打亂目前由ASML機台稱霸的微影市場。雖然應材並非直接挑戰ASML，但卻嘗試顛覆產業製造晶片的方式。

ASML的極紫外光設備（EUV）能處理先進半導體的製程，EUV機台更是該公司的「搖錢樹」，其銷量自2019年來已增加近一倍， ASML預期今年營收成長25%。

根據Cowen分析師桑卡爾的看法，這種新設備有望為應材年營收增加2億至3億美元，但短期內不會削弱ASML的EUV營收。